レーザーオプティクス & レンズ
レーザー加工 ・ マーキング ・ 計測などに使われるレンズおよびビームエキスパンダをご紹介します。
用途や条件（波長 ・ 焦点距離 ・ 倍率など）に合わせて、選定のご相談も承ります。
製品ラインアップ
fシータレンズ（fθレンズ、F-Theta-Ronar Lenses）
レーザーマーキング / スキャニング向けのfθレンズです。
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fθレンズ 340-360 nm
・ UVレーザーマーキング / スキャニング向け
・ 波長 340-360 nm、焦点距離 70-255 mm
・ 溶融石英（フューズドシリカ）設計 / テレセントリック対応あり -
fθレンズ 440-460 nm
・ 青色域レーザーマーキング / スキャニング向け
・ 波長 440-460 nm、焦点距離 262mm（±1%）
・ 溶融石英（フューズドシリカ）設計 -
F-Theta-Ronar Lenses 515-540/532 nm
・Fused-silica and optical-glass designs
・Telecentric versions available
・Focal lengths ranging from 75 mm to 420 mm, tolerance ±1%
・Screw thread M85x1 -
F-Theta-Ronar Lenses 940-980 nm
・Focal lengths ranging from 100 mm to 420 mm, tolerance ±1%
・Screw thread M85x1, except 4401-527-000-21 M76x1 -
F-Theta-Ronar Lenses 1030-1080/1064 nm
・Fused-silica and optical-glass designs
・Telecentric versions available
・Focal lengths ranging from 70 mm to 420 mm, tolerance ±1 %
・Screw thread M85x1, except 4401-261-000-21 M76x1 -
Protective Glasses
・Optimum protection for the optical system
・Coated on both sides
・High transmission for the corresponding wavelength or wavelength range
・High laser-damage threshold
・Short delivery time
集光レンズ（Focus-Ronar Lenses）
加工 ・ 溶接 ・ 穴あけなどの集光用途に最適化したレンズです。
可変倍率ビームエキスパンダ（Variable Beam Expanders）
ビーム径調整 ・ 発散角低減に。 手動 / モーター駆動のタイプがあります。
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Variable Magnification Beam Expanders
・Continuous variation of magnification 2x...8x
・Choice between fused-silica or glass entrance lens
・Continuous variation of exit-beam divergence
・Wavelengths 355 nm, 532 nm, 633/780/830/980 nm or 1064 nm
・Precise scales allow reliable settings and high repeatability -
Motorized Beam Expanders
・Continuous variable magnification 1x ...4x or 2x ...8x for wavelength 340-360 nm, 515-540 nm or 1030-1080 nm
・Fused-silica designs
・Continuous variation of exit-beam divergence
・Software running on the Windows™ platform (Win7, Win8, Win10)
・Reduce machine setup times by auto matic change of magnification
固定倍率ビームエキスパンダ（Fixed Beam Expanders）
一般的な光学系で扱いやすい固定倍率タイプです。
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ビームエキスパンダシステム 4倍 / 7倍
・Broadband anti-reflection coated with ARB2 for λ = 450 - 700 nm
・To generate plane wave fronts
・To focus laser beams at long distances
・To reduce laser beam divergence
・To use in alignment work or optoelectronic control systems -
ビームエキスパンダシステム 10倍
・Broadband anti-reflection coated with ARB2 for λ = 450 - 700 nm
・To generate plane wave fronts
・To focus laser beams at great distances
・To reduce laser beam divergence
・To use in alignment work or optoelectronic control systems