Fluence

Jasper X0 フェムト秒ファイバレーザ

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産業用・理化学用に開発された高出力オールファイバのレーザシステムです。
使いやすいソフトウエアによりPCからの操作で、完全にハンズオフで発振パルスのパルス幅、繰り返し周波数の調整が出来ます。
また完全にオールファイバ(SESAMフリー)ですので、個体レーザの様な煩わしいアライメントや結晶のクリーニングが発生しません。

JasperXOシリーズ全モデルにおいて発振器(OscillatorYb)は動作時間制限無しの
5年間保証。


アプリケーション

  • レーザ非熱加工 / 表面処理(撥水加工)/ レーザマーカ
  • 時間分解分光 / 高速赤外分光 / 非線形光学研究 / アト秒発生

オプション

  • 515nm, 343nm, 258nm 発振
  • カスタム超高出力レーザ
Jasper 10 Jasper 20 Jasper 30 Jasper 60
Maximum average power  10 W 20 W 30 W 60 W
Maximum pulse energy  50 μJ@200 KHz 100 μJ@200 KHz 200 μJ@150 KHz 200 μJ@300 KHz
Base repetition rate 20 ± 2 MHz
Repetition rate tuning Internal 200 kHz - 20 MHz
Pulse picker Single Pulse - 2 MHz
Pulse duration  < 270 fs (FWHM)
Pulse duration tuning < 270 fs FWHM (< 250 fs typical)
Central wavelength  1030 ± 5 nm
Optional wavelength outputs  With Harmonic Generation Module (HGM): 515 nm, 343 nm, 258 nm (available upon request)
Built-in pulse picker  Pulse on demand, any division of the base repetition rate
Beam quality M² < 1.3 (< 1.15 typical)
Output beam diameter 1/e2 2.5 ± 0.5 mm (other available upon request)
Polarization Linear, vertical
Burst mode for process enhancement Included
External gating trigger  Included
Laser control software  Included

Physical specification:

Size 1096 (L) x 446 (W) x 100 (H) mm3
Power supply unit size 3U 19" rack unit: 485 (W) x 376 (D) x 132 (H) mm3
Electrical 100 - 240 V AC, 50 - 60 Hz, < 620 W
Operating temperature 15 - 35 °C
Operating humidity Non - condensing
Chiller size 6U 19" rack unit: 485 (W) x 653 (D) x 267 (H) mm3

外形寸法図

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