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高出力オールファイバー
フェムト秒レーザー
Jasper X0

産業用・理化学用に開発された高出力オールファイバーのレーザーシステムです。
使いやすいソフトウエアによりPCからの操作で、完全にハンズオフで発振パルスのパルス幅、繰り返し周波数の調整ができます。
また完全にオールファイバー（SESAMフリー）ですので、個体レーザーのような煩わしいアライメントや結晶のクリーニングが発生しません。

  • 250 fs 以下の超短パルス／最⼤60 W 平均出⼒で、熱影響を最小化した
    薄膜加工・レーザーアニーリング・PLD（パルスレーザー堆積）が可能
  • 515 nm, 343 nm, 258 nm への波長変換オプションが搭載可能で、
    IRからUV までの広波長をカバー
  • 20 kHz–20 MHz の可変繰返し/Pulse-on-Demand 機能により、
    P1〜P3 のスクライビングや局所結晶化等の多様なプロセスパラメータを一台で最適化
  • オールファイバー構造で高安定・アライメントフリー、
    発振器（OscillatorYb）は、動作時間制限なしの５年間保証
Jasper X0　フェムト秒ファイバーレーザー

アプリケーション

  • レーザー非熱加工 / 表面処理（撥水加工）/ レーザーマーカー
  • 時間分解分光 / 高速赤外分光 / 非線形光学研究 / アト秒発生
  • ペロブスカイト太陽電池の研究・開発

【ペロブスカイト適合ポイント】
・ハロゲン化ペロブスカイトは熱に弱いため、非熱的なフェムト秒レーザー加工はフィルム損傷を抑制
・UV/グリーン光は Sn 系やタンデム型の透明導電膜にも高い吸収率をもち、集光径も小さいため、スクライビング幅の極小化に有利

オプション

  • 515nm, 343nm, 258nm 発振
  • カスタム超高出力レーザー

仕様

Jasper 10 Jasper 20 Jasper 30 Jasper 60
Maximum average power  > 10 W > 20 W > 30 W > 60 W
Maximum pulse energy  > 50 µJ > 50 µJ 200 µJ@150 kHz 200 µJ@300 kHz
System base repetition rate  20 ± 2 MHz 20 ± 2 MHz 20 ± 2 MHz 20 ± 2 MHz
Two stage repetition rate tuning: Selectable with
control software 		Selectable with
control software 		Selectable with
control software 		Selectable with
control software
  • Internal repetition rate
200 kHz – 20 MHz 200 kHz – 20 MHz 300 kHz – 20 MHz 600 kHz – 20 MHz
  • Pulse picker
0 Hz – 1 MHz 0 Hz – 1 MHz 0 Hz – 1 MHz 0 Hz – 1 MHz
Pulse duration  < 250 fs (FWHM) < 250 fs (FWHM) < 250 fs (FWHM) < 250 fs (FWHM)
Pulse duration tuning < 250 fs – 8 ps
(optional 250 fs – 20 ps) 		< 250 fs – 8 ps
(optional 250 fs – 20 ps) 		< 250 fs – 8 ps
(optional 250 fs – 20 ps) 		< 250 fs – 8 ps
(optional 250 fs – 20 ps)
Central wavelength  1030 ± 5 nm 1030 ± 5 nm 1030 ± 5 nm 1030 ± 5 nm
Optional wavelength outputs  515 nm, 343 nm, 258 nm 515 nm, 343 nm, 258 nm 515 nm, 343 nm, 258 nm 515 nm, 343 nm, 258 nm
Built-in pulse picker  Pulse on demand,
any division of the
base repetition rate 		Pulse on demand,
any division of the
base repetition rate 		Pulse on demand,
any division of the
base repetition rate 		Pulse on demand,
any division of the
base repetition rate
Beam quality M2 < 1.3 (typical <1.2) < 1.3 (typical <1.2) < 1.3 (typical <1.2) < 1.3 (typical <1.2)
Polarization Linear, vertical Linear, vertical Linear, vertical Linear, vertical
Burst mode for process enhancement Included Included Included Included
External gating trigger  Included Included Included Included
Laser control software  Included Included Included Included

Physical specification:

Size 1096 (L) x 446 (W) x 97 (H) mm3
Power supply unit size 3U 19" rack unit: 485 (W) x 376 (D) x 132 (H) mm3
Electrical 100 - 240 V AC, 50 - 60 Hz, < 250 W
Operating temperature 15 - 35 °C
Operating humidity Non - condensing
Chiller size 6U 19" (ask for other options)
Chiller electrical 100 - 240 V AC, 50 - 60 Hz, < 10.0 A

外形寸法図

外形寸法図

技術資料

データシート

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