『光で光を制御する』
液晶層への変調を電気ではなく、光で制御する液晶空間変調器です。 ピクセルレスで高分解能、しかも非線形応答を活かした高度な光制御が可能。
光学研究 ・ ホログラフィ ・ 波面整形 ・ フォトニクスAIの分野に新たな選択肢を提供する研究開発用モジュールです。
Writing Beamにより、光の強さに応じて内部のフォトコンダクティブ層(PC層)で起電し液晶層をコントロールします。 ピクセルがない(ピクセルレス)構造なので連続的に空間的に滑らかな変調、しかも非線形応答を活かした高度な光制御が可能です。

特長
- 光感光層 : VIS / NIR
- 空間分解能 : 20µm / 80µm
- 透過モード
- Phase / 強度変調
- 応答速度 : 15ms
- クリアアパーチャ : 20mm
- 光学的情報を光のまま書き込み ・ 処理できる(電子的デジタル処理不要)
- 非接触 ・ リアルタイムで波面制御が可能(例えば干渉計に向いている)
用途
| アダプティブホログラフィ / 干渉計測 |
光波面制御、空間光変調、非線形光学 |
|---|---|
| 量子光学 / ビーム整形 / 光渦ビーム生成 |
非常にスムーズな空間変調が可能(ピクセルグリッドなし) |
| 非線形光学 ・ 二波混合(two-wave mixing) |
Kerr様応答により、光同士の相互作用を可視化 |
| フォトニックコンピューティング ・ 光ニューラルネット ・ 光計算 |
光を光で制御するデバイスとして(光アナログ演算) |
仕様
| OALSM-VIS | OASLM-NIR | |
|---|---|---|
| 書き込み波長(Writing) | 450nm - 570nm | 800nm - 2000nm |
| 読み出し波長(Reading) | 400nm - 1050nm | 850nm - 1850nm |
| 動作モード | 透過 | 透過 |
| 消費電力(V=20 Vrms, f=1kHz) | <80mW | <80mW |
| ARコーティング | VIS | NIR |
| 透過率(λ=1030nm) | > 0.83 | >0.65 |
| 空間分解能 | 20μm | 80μm |
| クリアアパーチャ | 20mm | 20mm |
| LC屈折率(λ=632nm, max-min) | 1.74 - 1.52(T=20℃) | 1.74 - 1.52(T=20℃) |
| セル厚み | 9±0.05μm | |
| フォトコンダクティブ層 屈折率 | 2.54 | 3.86 |
| 外形サイズ, 重量 | 40mm x 40mm x 14mm, 54g | 40mm x 40mm x 20mm, 70g |
| LIDT | ~ 2J/cm2(10ns, 10Hz) | ~ 2J/cm2(10ns, 10Hz) |
開発キット OASLM Full Kit
構成
-
①OASLM-VIS(液晶変調器)
-
②Adaptive Light(光プロジェクター + ソフトウェア)
-
③HOA20K(ドライバー + ソフトウェア)
データシート
(左)② Adaptive Light (右)③ HOA20K
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