狭線幅 ・ 高精度ファイバーレーザー
Stabiλaser 1542ε
狭線幅、長期安定性、高精度のアセチレン安定化ファイバーレーザー（1542nm）です。 同じ筐体から倍波である771nmのレーザーも出力します。
1542nmで15mW、771nmで1mWのレーザー出力となっています。
仕様
| 主な仕様 ： 1542nmモジュール | |
|---|---|
| 波長（公称値※1, 真空中） | 1542.3843472 nm※4 |
| 線幅（short term） | ≦ 300 Hz |
| 安定性※2（Allan deviation, sampling time≧1秒） | ≦ 3 x 10-13 |
| 安定性※2（Allan deviation, sampling time≧200秒） | ≦ 3 x 10-14 |
| 長期精度 ［ドリフト/年］※3 | ≦ 2 x 10-12 |
| 出力, locked（公称値） | 20 mW |
| ファイバーコネクター（レーザー開口部） | FC/APC（PM） |
| オプション ： 771nmモジュール | |
|---|---|
| 波長（公称値, 真空中） | 771.1921736 nm※2 |
| 線幅（short term） | ≦ 600 Hz |
| 安定性※2（Allan deviation, sampling time≧1秒） | ≦ 3 x 10-13 |
| 安定性※2（Allan deviation, sampling time≧200秒） | ≦ 3 x 10-14 |
| 長期精度 ［ドリフト/年］※3 | ≦ 2 x 10-12 |
| 出力, locked（公称値） | 5 mW |
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※1The laser is locked to the acetylene line at 1542.3837 nm, but the available output is shifted by a fixed frequency of nominally 80 MHz, see also sections 7.1 and 10.1 in the manual.
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※2The specified stability may not be achieved if the Stabiλaser 1542ε is operated in a noisy and unstable environment.
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※3This parameter reflects the annual drift of the average laser frequency when the laser is operated in a stable environment. Accuracy at the same level can be obtained by an in-situ calibration using a reference of better accuracy.
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※4The Stabiλaser 1542ε will maintain lock during a temperature change but might have reduced frequency stability.
アプリケーション
- 光周波数コム
- 高精度長さ計測
- 分光計測
- 狭線幅遷移を用いたレーザー冷却
- 原子 ・ 分子電子遷移、研究 など
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