イメージングエリプソメーター
EllipsoStep

顕微鏡タイプのイメージングエリプソメーターです。 通常のエリプソメーターよりもはるかに小さな領域内で画像内のすべてのポイントで屈折率(nとk)と薄膜の厚さを測定することが可能です。

概要
取得するサンプルのエリプソメトリーイメージ(Ψ、⊿)を4秒程度で測定し、薄膜の屈折率、厚み測定を微小領域で行えるシステムです。 搭載する光学ユニットにより、250nmから1000nmまでの波長範囲でサンプルを測定することができます。

EllipsoStepではピクセルごとにサンプルの偏光解析(エリプソメトリック特性)を迅速かつ直接測定できるだけでなく、1µm未満の横方向分解能で測定を実行できます。 サンプルの顕微鏡画像をリアルタイムで表示し、高度な解析機能と組み合わせて使用​​することで、薄膜の厚さや屈折率などの特性を高分解能で測定できます。

アプリケーション

半導体関連

半導体業界においては、エリプソメトリーは業界の標準機器です。 マイクロイメージングが可能なイメージングエリプソメーターなら、より高精細にサンプルを測定できるのでこれまで以上の製品開発が望めます。

LCD / OLEDディスプレイ

LCDディスプレイ、OLEDディスプレイはどちらも薄膜技術を使用しています。 新たな製品開発や製造プロセスなどに適用することが可能です。

ポリマー

ポリマーフィルムはディスプレイ業界の薄膜構造で広く使用されており、EllipsoStepを使用してその特性を評価することができます。

太陽電池

代替エネルギーは非常に大きな新興市場であり、エリプソメトリーは次世代太陽電池の開発における重要なツールです。

グラフェン

グラフェンのような2D材料などの新素材や新技術開発への関心は非常に高くなっています。 イメージングエリプソメトリーは、新たなプロセスを確立する上で非常に重要な測定器です。


測定例

カメライメージの領域を一度に取り込み、その後、解析を行います。 以下のような、異なる特性領域が混在しても問題ありません。

ここでは、それらをまたぐラインスキャンのデータを示しています。 Si上のSiO2膜、Si上の酸化ケイ素のパターニングです。

EllipsoStep-img2 : 2つの異なる領域を横断するラインスキャン

以下の写真は、スパッタで使用されるマスクのコーナー部のコーティング厚みのイメージです。 コーナー部の実測イメージと2D Mapping、1Dスキャンをそれぞれ示しています。 大きく変化するリターダンスからも正しい厚みを表示することができます。

EllipsoStep-img3 : スパッタリングマシンに使用されるシャドウマスクのコーナーのコーティング厚み

1µmほどの空間分解能で、表面粗さや厚さの均一性を直接測定できます。

EllipsoStep-img4

複数領域を一度に測定、解析することも可能です。

EllipsoStep-img5 : テストパターン内の複数領域を同時に測定


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