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HDシリーズ RFアトムソース

HDシリーズ RFアトムソース拡大

RFアトムソースは、RF放電を利用した中性ビームの発生源です。

この RFアトムソースは極めて高い原子フラックスとイオン量ゼロの中性ビームを生み出します。これは、イオンビームプロセスに関連するポイントデフェクトがない極めて高い品質材料の急速な成長を行ないます。

RFアトムソースは窒化物成膜、酸化物成膜、水素原子によるクリーニングに利用されています。

  • 高解離率
  • 高品質膜
  • 均一性
  • フラックス:>1x1016 atoms/cm2/sec * Working distance: 100mm
  • 動作真空度:< 5x10-3 mbar
  • 窒化物、酸化物、N-ドーピング、High-K誘電体、水素原子クリーニング
  • GaInNAs、GaN、Al2O3、High-K
Model HD20 HD25 HD60 HD150
In-vacuum
diameter
34 mm 57 mm 96 mm 196 mm
Standard length 290 mm 290 mm 290 mm 212 mm
Beam diameter 20 mm 25 mm 50 mm 150 mm
Mounting flange NW35CF
(70mm/2.75”)
NW63CF
(114mm/4.5”)
NW100CF
(150mm/6”)
NW200CF
(250mm/10”)
Max. operating
power
400 W 600 W 600 W 1,200 W

Note: OAR also manufactures model HD25R specifically for users of some Riber MBE systems with non-standard port sizes. Please ask OAR for details

Flux: At a working distance of 100mm >1x1016atoms/cm2/sec

Standard equipment supplied: Source (to user-specified length & with viewport to plasma), RF cable, manual tuning unit, ion deflection plates and power supply

Services: 0.5l/min water cooling

Operating pressure: All sources can operate at chamber pressure <5x10-3mbar

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