高繰り返しピコ秒レーザ HYPER RAPID 25
独国 LUMERA LASER社 RAPIDシリーズは産業用ピコ秒レーザです。
ピコ秒パルス光の出力・発振周波数を制御することにより最適な条件で様々な形状の微細加工ができます。
発振器は、LD励起モードロック Nd:YVO4レーザ（1064nm）であり、さらに増幅用LDを多段に組むことにより高出力を得ています。
ナノ秒レーザより高精度の加工が可能であり、またフェムト秒レーザと比較すると信頼性が高く実用上取扱いが容易です。
- 波長： 1064nm （オプション 532nm/355nm)
- 高繰り返し： 200～1000ｋＨｚ （オプション 2000kHz）
- 高ビーム品質： M²＜1.3
- 短パルス： ＜15ps
- 高品質なピコ秒パルスではフェムト秒と同等の加工可能
| Repetition rate | Average power (W) | |||
| [kHz] | 1064 nm | 532 nm only | 355 nm | 532 nm |
| 200 | 25 | 15 | 5 | 14 |
| 500 | 25 | 13 | 9 | 10 |
| 800 | 25 | 11 | 8 | 8 |
| 1000 | 25 | 10 | 7.5 | 7 |
| 2000 | 25 | 7 | 4 | 4 |
| Repetition rate | Pulse energy (W) | |||
| [kHz] | 1064 nm | 532 nm only | 355 nm | 532 nm |
| 200 | 125 | 75 | 25 | 70 |
| 500 | 50 | 26 | 18 | 20 |
| 800 | 31 | 14 | 10 | 10 |
| 1000 | 25 | 10 | 8 | 7 |
| 2000 | 13 | 4 | 2 | 2 |
| Wavelength | 1064 nm (532 nm and 355 nm optional) | |||
| Pulse Repetition rate | 200～1000 kHz (optional up to 2000 kHz) | |||
| Spatial mode | TEM00 (M² < 1.3) | |||
| Pulse duration | < 15 ps | |||
| Pulse-to-pulse energy stability | < 1% RMS at 1000kHz | |||
| Average power stability over 8 h | < 1% RMS at 1000kHz | |||
| Polarization ratio | > 100 : 1 | |||
| Beam divergence, full angle | < 1 mrad | |||
| Beam circularity | > 85% | |||
| Beam-pointing stability in full PRF range | < 50 µrad/℃ | |||
| Electric supply | 100～230 VAC / 50～60Hz | |||
| Beam diameter | ～3000 µm at 1064 nm | |||
| Bore-sight accuracy | ± 0.5 mm and < 5 mrad | |||
| Warm-up time | < 20 min from cold start | |||
▼より良い加工のためのパルスレーザ制御
１パルスごとに出力制御が可能です。
▼また、パルス間隔を自由に制御できます。
- 高繰り返しピコ秒レーザ HYPER RAPID 25
771KB - サンプル加工例 A3版 ダウンロード 674KB
- ピコ秒パルスレーザによるガラスの新しい溶接法 2.58MB 参考論文
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