超精密光学素子
Gooch & Housego社 カリフォルニア事業所では、表面粗さ１オングストローム以下の平面や凹面を製造できるスーパーポリッシュ研磨法と反射率 99.99% 以上が実現できるイオンビームスパッタリング（IBS)方式等のコーティング技術を基にした高精度基板、高反射・低損失ミラー等を製品化しており、SiC基板研磨、サファイア基板研磨、リングレーザジャイロスコープフレーム（ブロック）、高性能エタロンを販売しています。軍事・航空、半導体製造装置、度量衡などの精密測定機器、光通信用部品、レーザ用高性能部品、医療応用装置などの分野で利用頂いています。
平面基板、凹面基板
平面粗さ １オングストローム以下
- レーザ品質
- 平面度 1/10λ
- スクラッチ＆ディグ 10/5
- コーティング材質 誘電体多層膜、金属薄膜
- 御要求により、基板材質、基板サイズおよび開発試作にも対応致します。
- Zygo社のヘテロダインプロファイラーによる基板表面形状測定結果を添付した製品もあります（別途料金が必要です）。
カタログ
- 平面基板、凹面基板
221KB
コーティングサービス
G&H社が作成した平面基板や凹面基板に、お客様の仕様による高反射や低損失の薄膜をコーティングするサービスです。コーティング機器として、イオンビームスパッタリング（IBS)、イオンアシストデポジション（IAD)、ｅビームコーティングなどの多数のチャンバーを有しており、低散乱 5ppm以下の低散乱、5ppm以下の低い吸収で直径 12 インチの基板上で1% 以下の均一な膜を得る事ができます。蒸着膜の種類としては、TiO2、Ta2O5、HfO2、ZrO2、SiO2、Al2O3、Mgf2、Sc2O3、Nickel等でコーティングする物質としてはチタン、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム、シリコン、シリコンカーバイド、アルミニウム、銀、クロムを用いています。
G&Hで行うコーティングの代表例としては 次の様なコーティングが可能です。
- 低損失・高反射率コーティング
- デュアルバンド 低損失・高反射率コーティング
- 半透過膜、ビームスプリッターコーティング
- ARコーティング 反射率 0.1% 以下
- V型 ARコーティング 反射率 0.01% 以下
- ブロードバンド ARコーティング
カタログ
- コーティングサービス 307KB
ＳｉＣ（シリコンカーバイド）基板研磨
従来用いられていたベリリューム基板に代わるシリコンカーバイド（SiC)の基板の研磨ができます。
また研磨したSiC基板上に各種コーティングを行うサービスも致します。
カタログ
- ＳｉＣ（シリコンカーバイド）基板研磨 101KB
サファイア基板研磨
通常研磨しづらいサファイア基板を、表面粗さ１オングストローム以下で研磨します。
カタログ
- サファイア基板研磨 119KB
Ｘ線・シンクロトロン放射光用光学素子（ミラー）
Siの長方形や楕円形状のミラーが作成可能です。
表面粗さは １オングストローム以下です。
カタログ
- X線・シンクロトロン放射光用光学素子（ミラー） 104KB
リングレーザジャイロスコープ (RLG) フレーム（ブロック）と光学素子
低熱膨張材であるゼロデュアセラミックを用いたRLGのフレーム（ブロック）を製造しており、世界中でほとんどのRLGメーカがG&H社が製造したフレームを用いています。
カタログ
エタロン
１オングストローム以下の平面粗さが得られるスーパーポリッシング技術と磁気流体を用いた最終研磨法と波長掃引レーザを使用し、エタロン全面に渡り 2nm/mmより良い基板厚さの管理をしています。
エタロン表面のコーティングとしてはイオンビームスパッタ法により高密度で最小の表面ストレスの高反射膜（HR)や半透明膜（PR)を実現しており、CバンドやLバンドの代表的なHRとしては 99.998% より良い反射率を実現しております。
フリースペクトルレンジ（FSR）としてはITU規格に対応する 25GHz, 50GHz, 100GHz, 200GHzのエタロンが供給可能です。またお客様の御要求により、FSRとして2GHzから300GHzのエタロンが製造可能です。
カタログ
- エタロン 179KB
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