X-ray・EUV

EUV領域のSchwarzschild対物鏡

Schwarzschild対物鏡は大きなアパーチャーと高い機械精度をもち、色収差がないことからEUV領域のイメージングオプティクスとして年々多く使用されています。

Schwarzschild対物鏡は球形凸第一ミラーと球形凹第二ミラーで構成されています。 ふたつのミラーは高精密に研磨されMo/Si多層膜コーティングが施されています。
光学パーツはストレスフリーで固定ヒンジを使用して固定されるため機械的に非常に安定しています。
使用中にミラーの調整を行うことも可能です。

要求仕様

• 回折限界での性能
• 光学面の変形： 0.4 nm rms
• 光学面の粗さ： 0.2 nm rms
• 光学面の研磨精度： 横方向の不整列1.7µm、軸オフセット10 µm軸オフセット
• 光学部品の低ストレスマウント
• 炭化水素フリーのマウント設計

カスタマイズ

• 特殊用途のSchwarzschild対物鏡の製作
• 波長範囲12.5 nm ～ 25 nmで横に段階的なMo/Si多層膜コートを施したSchwarzschild対物鏡
• ミラーを使ったシステムの外形、設計および実現

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• EUV領域の Schwarzschild 対物鏡 127KB

軟Ｘ線用Cr/Sc多層膜ミラー

Cr/Sc多層膜は軟X線領（3.1 nm to 5 nm）の光学部品の反射コーティングとして使われます。

ビームの伝送、形成あるいはイメージング用のミラーとしてこの材料の組み合わせは知られています。

スペクトルバンド幅が非常に狭いため、これらのミラーは高分解能モノクロメーターとして使用されます。（λ/Δλ ≈ 300）

用途

• Water Window領域のX線顕微鏡
• X線望遠鏡
• プラズマ源の分析
• X線蛍光分析　（XRF>
• X線分光　（XPS/ESCA）

Cr/Sc多層膜ミラー入射角30°及び60°での反射率

Cr/Sc多層膜ミラー垂直入射での反射率

カスタマイズ

• マグネトロンスパッタリング方式を使用した波長 3.1～5nm用 Cr/Sc多膜ミラーコーティング
• カスタム仕様（波長、入射角）のミラー設計
• 様々な材質（例：シリコン、セロデュアなど）局率のある材質への蒸着（径、曲率などによります）

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• 軟Ｘ線用 Cr/Sc 多層膜ミラー 153KB

EUV ブロードバンドミラー

EUVスペクトル領域の多層膜ミラーは入射角とスペクトル領域（通常： Dl = 0.5 nm, Dq = 10°）が制限されてきました。この新しいコーティングデザインはこの使用可能範囲を広げました。この結果、大きく曲率のある材質へコーティングができるようになり、ブロードバンドミラーは広域のプラズマ源とともに使用できるようになりました。

用途

• システムとしての反射率増強
• プラズマ源の特長描写
• EUV分光　（例：天文物理）
• 高次オーダー反射の抑制
• 曲率のある材質のコーティング

波長範囲13～15 nm用のブロードバンドミラー
と通常の多層膜ミラーとの反射率の比較

入射角0～20°に設計されたブロードバンドミラー
と通常の多層膜ミラーの反射率の比較

カスタマイズ

ブロードバンドＥＵＶ多層膜ミラーの
電子マイクログラフ透過率

• カスタム仕様のブロードバンドEUVミラーの製作
• 特殊波長範囲の最適化
  　例： 2.5～15.5 nm、13～14 nm
• 入射角範囲の最適化
  　例： 0°～20°、 0°～30°
• 異なる材質への蒸着
  　例： シリコン、ゼロデュア™、ULE™

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• ＥＵＶ ブロードバンドミラー 144KB

EUV ナローバンドミラー

通常EUV範囲の多層膜ミラーは狭波長範囲（通常：Δλ ≈ 0.5 nm at λ=13 nm）であるためモノクロメーターとして使用されてきました。
Fraunhofer IOFの新しいコーティングデザインはこの分解能の問題を改善しました。

用途

• シンクロトロン源のモノクロメーター
• プラズマ源のモノクロメーター
• 分光 (例、天文物理)
• 短パルスレーザの高調波の選択
• プラズマ源の特徴描写

ベルリンのシンクロトロンBESSY II において反射計PTBにて測定されたEUVナローバンドミラーの波長13.5nmでの反射率。半値全幅（FWHM）が高次反射オーダーで大きく改善されている。吸収率がより高くなるため反射率が減少する。したがって最適なコーティングデザインは反射率とFWHMの間で検討されなければいけない。

カスタマイズ

• カスタム仕様のブロードバンドEUVミラーの製作
• 特殊波長範囲の最適化
  例： 2.5～ 15.5 nm, 13～ 14 nm
• 入射角範囲の最適化
  例： 0°～ 20°, 0°～ 30°
• 異なる材質への蒸着
  例： シリコン、ゼロデュア™、ULE™

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• ＥＵＶ ナローバンドミラー 57KB

35nm～50nm領域用Sc/Si 多層膜オプティクス

λ = 46.9 nm発光のパルスハイパワーレーザには高反射ビーム形とイメージングオプティクスが必要です。スカンジウム／シリコンベースの多層膜がこの用途に適しています。Sc/Si 多層膜オプティクスは、35nm～50nm範囲のミラー、ビームスプリッター、偏光子やモノクロメーターなどのアプリケーションに使用できます。特殊バリア層が発光と熱安定性およびSc/Si多層膜オプティクスの光学特性を増強させるために使用されます。

用途

• 46.9 nmのEUVレーザ用集光系、イメージングオプティクス
• レーザプラズマの高次オーダーの分離
• EUV分光
• EUV天文
• プラズマ物理

カスタマイズ

• 特殊なSc/Si多層膜オプティクスの設計、蒸着と性能特性
• 異なる材質へのコーティング（例　セロデュア™、USE™、溶融石英、シリコン）
• 曲率のある材質の横の厚み勾配の実現
• 垂直入射での反射率：R > 55 % @ 46.9 nm
• 波長：35 nm ～ 50 nm
• 入射角：0° から 70°

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• 35nm～50nm領域用 Sc/Si 多層膜オプティクス 134KB

オプティクス

• Fθ・テレセントリックレンズ

• マイクロレンズアレイ

• 回折格子

• 偏光用オプティクス

• アイソレーター

• フィルタ

• 結晶

• 焦点可変レンズ

• X線・EUV用オプティクス

• スキャナー・スキャンシステム

• レーザ用オプティクス